Pada lini produksi berukuran 300 mm, kelembapan yang tertinggal setelah proses pembersihan merupakan masalah yang tidak terlihat sampai saatnya sudah terlambat. Kelembapan tersebut masuk ke dalam lapisan fotoresist, mengganggu keseimbangan suhu yang diperlukan, dan menyebabkan munculnya cacat pada permukaan wafer setelah proses eksposur. Lampu pemanas untuk menghilangkan kelembapan pada wafer dirancang untuk mencegah hal tersebut sejak awal.
Apa yang penting dalam pengoperasiannya
Kami menggunakan lampu halogen kuarsa berfrekuensi gelombang pendek dengan filamen yang memiliki respons cepat, sehingga panasnya dapat disalurkan tepat ke tempat yang diperlukan, secara cepat dan terlokalisir. Tingkat keseragaman suhu di seluruh area pemanggangan adalah ±0,1°C. Inilah alasan mengapa proses pemanggangan jenis “soft bake” dan “hard bake” tetap digunakan dalam proses produksi.
Unit ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Bahan-bahan yang digunakan memiliki kadar emisi gas yang rendah, sehingga tidak ada partikel yang dihasilkan selama proses pemanggangan. Suhu keluaran tetap stabil antara 200°C hingga 450°C, sehingga proses dehidrasi dan stabilisasi permukaan wafer dapat berjalan tanpa gangguan suhu.
Mengapa unit ini efektif digunakan
Proses pemanggangan perlu berjalan sama baiknya pada pukul 02:00 maupun pukul 14:00. Lampu ini memastikan hal tersebut terjadi: menghilangkan kelembapan di permukaan wafer, menstabilkan kondisi fotoresist sebelum proses eksposur, lalu mengunci citra yang dihasilkan setelah proses pengembangan. Dengan demikian, jumlah produk yang perlu diperbaiki berkurang, limbah berkurang, dan kualitas produk pun lebih terjaga.
Penggunaan energi juga berkurang, karena lampu ini dapat mencapai suhu target dengan cepat, dan dapat beralih dari mode diam ke mode proses dengan mulus. Lampu ini dapat beroperasi 24/7 tanpa adanya masa istirahat yang tidak terencana. Sebagai alternatif langsung dari lampu pemanas buatan OEM, lampu ini dapat langsung digunakan dalam sistem pelapisan/pemanggangan yang sudah ada, tanpa perlu melakukan penyesuaian ulang pada seluruh modulnya.
Hal-hal yang perlu diperhatikan
Pemasangan lampu ini cukup sederhana pada perangkat standar, tetapi penyesuaian posisi lampu sangat penting. Pastikan lampu berada dalam jarak fokus yang telah ditentukan; jika tidak, akan muncul efek panas di bagian tepi wafer. Perlakukan kuarsa dengan hati-hati—hindari sidik jari atau zat pelarut pada permukaannya. Pastikan juga tingkat emisi cahaya dan kondisi reflektor dalam chamber sesuai standar, terutama pada kali pertama digunakan.
Ada periode singkat saat output lampu masih belum stabil. Setelah itu, aturlah suhu targetnya dan biarkan proses berjalan secara normal.