Dukungan teknis untuk pemanasan wafer
Di lini produksi litografi, kita akan segera menyadari bahwa sedikit saja perubahan suhu, bahkan setengah derajat saja, sudah cukup untuk membuat...
Pemanas pendukung penghilangan fotoresist
Di lantai litografi, proses stripping bukanlah sekadar pemberhentian pasif—ini adalah proses termal yang harus berjalan bersih. Photoresist harus...