Di bahagian pengeluaran cip, perubahan suhu semasa proses pembakaran sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengubah dimensi kritikal cip tersebut sebanyak beberapa nanometer. Itulah sebabnya banyak cip yang rosak akibat faktor ini. Keseragaman suhu pada tahap wafer dan profil fotorezist yang konsisten bukanlah konsep teori semata-mata; ia merupakan faktor penting yang perlu diambil kira setiap kali proses pengeluaran berlangsung untuk memastikan kualiti cip yang tinggi. Lampu halogen kuarsa mampu menghasilkan haba yang stabil dan tepat di tempat yang diperlukan, seperti semasa proses pembakaran atau pra-pendedahan. Ini sangat penting kerana di tempat-tempat tersebut, kawalan suhu sangat ketat, dan sebarang kesilapan boleh menyebabkan masalah besar.
Apa yang benar-benar penting dari segi teknikal
Lampu halogen kuarsa menghasilkan sinar inframerah berfrekuensi rendah dengan tindak balas yang cepat serta kawalan spektrum yang tepat. Dengan ini, suhu dapat dinaikkan dengan cepat tanpa menyebabkan masalah. Kami merancang sistem ini agar suhu pada permukaan wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C untuk wafer berukuran 300 mm. Ini memastikan fotorezist mendapat tenaga yang konsisten di seluruh permukaannya. Sistem ini juga direka untuk berfungsi dengan baik dalam persekitaran kelas 1–100, tanpa penghasilan zarah-zarah yang tidak diinginkan. Prestasi sistem ini tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan prestasi kurang dari 5%. Ini membolehkan operasi 24/7 tanpa masalah, dan memudahkan proses penyelenggaraan.
Mengapa ini sesuai untuk proses litografi
Proses litografi memerlukan haba yang sesuai dengan proses yang dilakukan, bukannya sebaliknya. Lampu halogen kuarsa ini dapat menyesuaikan diri dengan profil suhu yang diperlukan, sehingga membantu mengurangkan variasi lebar garisan dan meningkatkan kualiti hasil pengeluaran. Proses pembakaran yang konsisten dapat mengawal proses penguapan bahan pelarut, sementara proses pembakaran yang intensif pula dapat memastikan bahan tersebut melekat dengan baik tanpa perlu memproses wafer sekali lagi. Kecekapan proses meningkat kerana hubungan antara gelombang inframerah dan massa haba yang rendah. Dengan ini, masa henti yang tidak dijangka dapat dikurangkan, dan prestasi sistem tetap stabil. Hasilnya ialah kualiti cip yang lebih tinggi, jumlah cip yang rosak berkurangan, dan OEE yang stabil.
Apa yang perlu dipastikan semasa pemasangan
Pemasangan sistem ini memerlukan reflektor yang sesuai serta sistem penyejukan yang efektif. Alat-alat yang disejukkan secara udara perlu memastikan aliran udara yang stabil; jika aliran udara terganggu, suhu lampu kuarsa akan meningkat, dan spektrum cahaya juga akan berubah. Sistem ini perlu disambungkan ke sistem kawalan suhu dan alat pemantauan SPC, agar nilai tetapan dapat dikawal dengan baik. Proses pemanasan awal diperlukan sebelum sistem beroperasi secara stabil. Apabila sistem ini disambungkan dengan betul ke proses pengeluaran, ia akan berfungsi dengan tepat seperti yang diharapkan.