Pada garis pengeluaran 300mm, kelembapan yang tertinggal selepas proses pembersihan merupakan masalah yang tidak dapat dilihat sehingga sudah terlambat. Kelembapan ini akan meresap ke dalam lapisan photoresist, mengganggu keseimbangan suhu yang diperlukan, dan menyebabkan masalah pada hasil pengeluaran. Lampu pemanas untuk menghilangkan kelembapan pada wafer direka untuk mencegah masalah ini dari berlaku.
Apa yang penting di belakang tabir
Kami menggunakan lampu kuarsa halogen berfrekuensi rendah dengan filamen yang responsif cepat, agar haba dapat disalurkan ke tempat yang diperlukan dengan cepat dan tepat. Spesifikasinya adalah keseragaman suhu sekitar ±0.1°C di seluruh kawasan pembakaran wafer. Inilah sebabnya mengapa proses pembakaran lembut dan keras tetap digunakan dalam proses pengeluaran.
Unit ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Ia dibina menggunakan bahan-bahan yang menghasilkan gas yang rendah, serta reka bentuk yang memastikan tiada zarah-zarah berbahaya dihasilkan. Suhu keluaran adalah stabil antara 200°C hingga 450°C, dengan ketepatan yang tinggi. Ini membolehkan proses pengeringan dan penstabilan berlaku tanpa gangguan suhu.
Mengapa ia berkesan
Proses pembakaran perlu berjalan dengan sama baik pada masa pukul 02:00 mahupun pukul 14:00. Lampu ini memastikan proses pembakaran berjalan dengan sempurna: menghilangkan kelembapan pada permukaan wafer, menstabilkan lapisan photoresist sebelum proses eksposur, dan seterusnya memastikan imej yang dihasilkan stabil. Hasilnya, kurangnya keperluan untuk melakukan pembaikan, kurangnya bahan buangan, dan kawalan kualiti yang lebih baik.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana lampu ini dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, dan boleh beroperasi 24/7 tanpa henti. Ia boleh digunakan secara langsung dalam sistem pengeluaran sedia ada, tanpa perlu mengubah suai seluruh modul tersebut.
Apa yang perlu diperhatikan
Pemasangan lampu ini mudah dilakukan pada kemudahan standard, tetapi penyesuaian posisi lampu sangat penting. Pastikan lampu berada dalam jarak fokus yang ditetapkan; jika tidak, anda akan melihat masalah berkaitan suhu. Sentiasa pastikan permukaan kuarsa tidak terdedah kepada cap jari atau bahan pelarut. Semak juga keadaan emisiviti ruang dan reflektor semasa ujian pertama.
Terdapat tempoh pendek untuk menstabilkan keluaran lampu sebelum ia boleh digunakan sepenuhnya. Selepas itu, tetapkan suhu yang diinginkan dan biarkan proses berjalan seperti biasa.