Op de wafervloer weet je dat een zachte bake die zelfs 0,2°C verschuift je kritische afmetingen beïnvloedt, en een harde bake die aan de rand te warm is, kan residu en aanslag achterlaten. We hebben de infraroodlamp voor de cleanroombank ontwikkeld om die variabiliteit uit de vergelijking te halen.
Wat er onder de motorkap belangrijk is Het werkt met nabij-infrarood (NIR) kwartsemitters, die snel en directioneel verwarmen met minimale thermische vertraging. Over het verlichte gebied houden we de uniformiteit op wafer-niveau op ±0,1°C, en de gesloten lusregeling stabiliseert in enkele seconden op de ingestelde waarde. De behuizing is compatibel met cleanroomklasse 1-100, met afgedichte aansluitingen, materialen met een lage gasafgifte en een interne luchtstroom die de deeltjesgeneratie beperkt tot enkelvoudige tellingen per kubieke voet. De output blijft stabiel gedurende 5.000+ uren, en de repetitiefactor van run tot run blijft behouden. In de lithografie heb je een consistente zachte bake nodig om oplosmiddelen schoon te trekken, en een harde bake die de fotoresist zonder verrassingen fixeert. Deze lamp biedt beide, met strakke controle over het thermische budget. Het resultaat is betere CD-uniformiteit en een kleinere randbead. Bovendien verkort de snelle respons de baktijd, wat het energieverbruik vermindert en de doorvoer verhoogt. Je verhoogt ook de procesmarge, vooral bij dunne resist en meerlaagse stapels. Minder afvalpartijen. Minder herwerk. Een paar praktische opmerkingen. De lamp heeft een toegewijde, gefilterde stroomvoorziening nodig en moet worden gemonteerd met voldoende ruimte om schaduw of lokale oververhitting te vermijden. De oppervlaktetemperaturen kunnen tijdens de werking ver boven de veilige hantering stijgen, dus plan je beschermingen en interlocks. Voor de beste resultaten, stem het spectrum van de emitter af op je resiststapel en kalibreer de temperatuur op het wafervlak, niet op de behuizing.