<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Striptýz on Patio Infrared Heating Comfort</title>
		<link>http://patio-ir-comfort.com/cs/tags/stript%C3%BDz/</link>
		<description>Recent content in Striptýz on Patio Infrared Heating Comfort</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 31 May 2026 23:48:35 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://patio-ir-comfort.com/cs/tags/stript%C3%BDz/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Topný podpůrný prvek pro odstraňování fotorezistu</title>
				<link>http://patio-ir-comfort.com/cs/posts/photoresist-stripping-support-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 23:48:35 +0800</pubDate>
				<guid>http://patio-ir-comfort.com/cs/posts/photoresist-stripping-support-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-comfort.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Topný podpůrný prvek pro odstraňování fotorezistu&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na lithografické hale není odstraňování fotoresistu pasivní zastávkou – jde o tepelný proces, který musí odpracovat svou funkci čistě. Fotoresist musí být zcela odstraněn, bez zbytků, bez opětovného usazování a bez namáhání vrstvy waferu. Když podpůrný ohřívač nesplní požadavek, linka to okamžitě pocítí. Vznikají vady. Počet částic roste. A výtěžnost vykazuje každý stupeň odchylky.&lt;br&gt;&#xA;Navrhli jsme podpůrný ohřívač pro odstraňování fotoresistu tak, aby zvládl tento moment s opakovatelnou kontrolou teploty a materiály vhodnými do čistého prostředí. V polovodičové výrobě je termální chování procesním chováním – nelze je oddělit.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
