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		<title>Entkleiden on Patio Infrared Heating Comfort</title>
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				<title>Heizgerät zur Unterstützung des Photoresist Entfernens</title>
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				<pubDate>Sun, 31 May 2026 23:48:33 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-comfort.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Heizgerät zur Unterstützung des Photoresist Entfernens&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der Lithografie-Ebene ist das Abstreifen kein passiver Zwischenstopp – es ist ein thermischer Prozess, der seine Aufgabe sauber erfüllen muss. Der Photoresist muss vollständig abgelöst werden, ohne Rückstände, ohne Wiedereinlagerung und ohne das Wafer-Stack zu belasten. Wenn die Heizunterstützung nicht exakt arbeitet, spürt die Linie das sofort. Fehler schleichen sich ein. Die Partikelzahlen steigen. Und das Yield-Blatt zeigt jede einzelne Abweichung.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Wir haben den Photoresist-Abstreif-Heizsupport entwickelt, um diesen Moment mit reproduzierbarer Temperaturkontrolle und reinraumgeeigneten Materialien zu meistern. In der Halbleiterfertigung ist thermisches Verhalten Prozessverhalten – eine Trennung gibt es nicht.&lt;/p&gt;</description>
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