Technische Unterstützung bei der Erwärmung der Wafer

Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800

Im Bereich der Lithografie lernt man schnell, dass bereits eine Abweichung vonhalb eines halben Grades bei der Erhitzung dazu führt, dass die Eigenschaften des CDs nicht mehr den Vorgaben entsprechen. Wenn die Erhitzung an den Rändern zu stark ist, entstehen Unreinheiten, die die Überprüfung der Produkte erschweren. Die Erhitzung der Wafer ist daher kein bloßes Nebenaspekt – sie bestimmt vielmehr das thermische Verhalten jeder Schicht auf der Waferoberfläche. Wenn die Gleichmäßigkeit nicht gewährleistet ist, kann das Produkt nicht versandt werden – man muss ständig nach Lösungen suchen.

Heizgerät zur Unterstützung des Photoresist Entfernens

Sun, 31 May 2026 23:48:33 +0800

Auf der Lithografie-Ebene ist das Abstreifen kein passiver Zwischenstopp – es ist ein thermischer Prozess, der seine Aufgabe sauber erfüllen muss. Der Photoresist muss vollständig abgelöst werden, ohne Rückstände, ohne Wiedereinlagerung und ohne das Wafer-Stack zu belasten. Wenn die Heizunterstützung nicht exakt arbeitet, spürt die Linie das sofort. Fehler schleichen sich ein. Die Partikelzahlen steigen. Und das Yield-Blatt zeigt jede einzelne Abweichung.

Wir haben den Photoresist-Abstreif-Heizsupport entwickelt, um diesen Moment mit reproduzierbarer Temperaturkontrolle und reinraumgeeigneten Materialien zu meistern. In der Halbleiterfertigung ist thermisches Verhalten Prozessverhalten – eine Trennung gibt es nicht.

Unterstützung on Patio Infrared Heating Comfort

Technische Unterstützung bei der Erwärmung der Wafer

Heizgerät zur Unterstützung des Photoresist Entfernens