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		<title>UV on Patio Infrared Heating Comfort</title>
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				<title>Tief UV (DUV) Resistbacklampe</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-comfort.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Tief UV (DUV) Resistbacklampe&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf dem Lithografieboden ist eine Drift von 0,2 °C bei der Resist-Backtemperatur keine „kleine Abweichung“. Es bedeutet Produktionsausfall. Der Softbake legt das Lösungsmittelprofil fest. Der Hardbake fixiert das Bild. Beide benötigen eine Wärmezufuhr, die wiederholbar ist – Wafer für Wafer. Schwankt das Backprofil, leidet die CD-Kontrolle, Rückstände bleiben haften und Spülrückstände zeigen sich nach der Entwicklung.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Unsere DUV-Resist-Backlampe nutzt Nahinfrarot-Heizung, um ein &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;stabiles&lt;/a&gt; thermisches Feld mit submillimeter-genauer Gleichmäßigkeit zu erzeugen. Sie erhalten eine Wafer-Temperaturkontrolle, die innerhalb enger thermischer Budgets bleibt, so dass jeder Softbake und Hardbake genauso abläuft wie der vorherige Durchlauf. Die Infrarotenergie koppelt direkt in den Resist ein, was Verzögerungen und Überschwingungen reduziert. Reproduzierbarkeit ist kein Werbeslogan – sie zeigt sich in Sollwerten nach Sollwerten, Zyklus für Zyklus.&lt;/p&gt;</description>
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