Heizlampe zur Entfeuchtung von Wafern

Sat, 20 Jun 2026 01:58:24 +0800

In der 300-mm-Linie ist die nach der Reinigung zurückgebliebene Feuchtigkeit ein Problem, das erst dann erkennbar wird, wenn es bereits zu spät ist. Die Feuchtigkeit dringt in die Schicht aus Fotolack ein, stört damit das thermische Gleichgewicht und führt nach der Belichtung zu Unregelmäßigkeiten auf der Waferoberfläche. Die Heizlampe zum Entfernen der Feuchtigkeit an den Wafers dient dazu, dieses Problem bereits in seiner Entstehung zu bekämpfen.

Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Halogenquarzlampen mit schnelle Reaktionszeiten – dadurch wird die Wärme genau dort abgegeben, wo sie benötigt wird – schnell und gezielt. Die Genauigkeit beträgt ±0,1°C über die gesamte Behandlungszone hinweg. Genau deshalb werden die Profile für die Weich- und Hartbehandlung immer wieder verwendet.

Technische Unterstützung bei der Erwärmung der Wafer

Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800

Im Bereich der Lithografie lernt man schnell, dass bereits eine Abweichung vonhalb eines halben Grades bei der Erhitzung dazu führt, dass die Eigenschaften des CDs nicht mehr den Vorgaben entsprechen. Wenn die Erhitzung an den Rändern zu stark ist, entstehen Unreinheiten, die die Überprüfung der Produkte erschweren. Die Erhitzung der Wafer ist daher kein bloßes Nebenaspekt – sie bestimmt vielmehr das thermische Verhalten jeder Schicht auf der Waferoberfläche. Wenn die Gleichmäßigkeit nicht gewährleistet ist, kann das Produkt nicht versandt werden – man muss ständig nach Lösungen suchen.

Wafel on Patio Infrared Heating Comfort

Heizlampe zur Entfeuchtung von Wafern

Technische Unterstützung bei der Erwärmung der Wafer