http://patio-ir-comfort.com/es/tags/hornear/ Recent content in Hornear on Patio Infrared Heating Comfort Hugo es Wed, 01 Jul 2026 06:41:26 +0800 http://patio-ir-comfort.com/es/posts/lithography-soft-bake-heating-element/ Wed, 01 Jul 2026 06:41:26 +0800 http://patio-ir-comfort.com/es/posts/lithography-soft-bake-heating-element/ <p><img src="http://patio-ir-comfort.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Elemento calefactor de cocción suave para litografía"></p> <p>En el proceso de litografía, la temperatura de secado no es algo opcional; es un límite estricto que debe respetarse. Es necesario lograr una eliminación consistente del disolvente, en todas las áreas de la oblea, sin importar dónde se encuentren los bordes. Incluso unos pocos grados de desviación o puntos calientes pueden arruinar todo el proceso de control de calidad. Hemos diseñado el elemento calefactor para que funcione dentro de esos límites, día tras día.</p> http://patio-ir-comfort.com/es/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ Mon, 01 Jun 2026 17:44:52 +0800 http://patio-ir-comfort.com/es/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ <p><img src="http://patio-ir-comfort.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Lámpara de horneado de resina para UV profundo (DUV)"></p> <p>En la sala de litografía, una deriva de 0.2°C en la temperatura de horneado del resist no es una “pequeña desviación”. Es rendimiento que se pierde. El soft bake define el perfil de solvente. El hard bake fija la imagen. Ambos requieren una entrega de calor que se repita, oblea tras oblea. Cuando el perfil de horneado varía, el control de CD se deteriora, queda escoria y aparecen residuos de enjuague después del revelado.</p>