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		<title>Support on Patio Infrared Heating Comfort</title>
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		<description>Recent content in Support on Patio Infrared Heating Comfort</description>
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			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800</lastBuildDate>
		
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				<title>Support technique pour le chauffage des wafer</title>
				<link>http://patio-ir-comfort.com/fr/posts/technical-support-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-comfort.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Support technique pour le chauffage des wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le poste de lithographie, on apprend rapidement que même une légère déviation de température, d’un demi-degré seulement, peut faire sortir les paramètres de fabrication des disques optiques de leurs limites acceptables. De plus, si la chaleur générée par les lampes est trop intense aux bords du disque, cela provoque des problèmes qui rendent l’inspection impossible. Le chauffage des wafers n’est pas une simple étape secondaire : il détermine le budget thermique nécessaire pour chaque couche à fabriquer. Lorsque l’uniformité des températures est compromise, on ne peut pas expédier les wafers – il faut alors passer son temps à corriger ces écarts.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Chauffage de support pour décapage de photoresist</title>
				<link>http://patio-ir-comfort.com/fr/posts/photoresist-stripping-support-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 23:48:34 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-comfort.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Chauffage de support pour décapage de photoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur l’étage lithographie, le stripping n’est pas une simple pause passive — c’est un procédé thermique qui doit être réalisé proprement. Il faut que le photoresist se décolle complètement, sans résidu, sans redéposition et sans solliciter mécaniquement la pile de wafers. Lorsque le chauffage de support n’atteint pas la cible, la ligne le ressent immédiatement. Les défauts apparaissent. Le nombre de particules augmente. Et la feuille de rendement reflète chaque degré de dérive.&lt;/p&gt;</description>
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