רכיב חימום לתהליך הליתוגרפיה

Wed, 01 Jul 2026 06:41:51 +0800

בתהליך הליתוגרפיה, טמפרטורת החימום הנמוכה אינה בחירה שרירותית – זו דרישה הכרחית. יש צורך בהסרה אחידה של החומרים המדביקים, מקצה לקצה, בכל שבב. כל שינוי קל בטמפרטורה עלול לגרום לבעיות בשליטה על התהליך. יצרנו את רכיב החימום כך שיפעל בתוך גבולות אלו, יום אחר יום.

מה חשוב מבחינה טכנית? רכיב החימום הוא מסוג אינפרא-אדום בגלים קצרים; הוא עשוי מקוורץ והלוגן. דבר זה מאפשר תגובה תרמית מהירה ושליטה מדויקת בטמפרטורה. הטמפרטורה הרצויה נשמרת ברמה של ±0.1°C בכל שטח השבב, כך שהתוצאות יהיו אחידות בכל פעם. הרכיב תואם את סטנדרטי חדרי הניקיון הגבוהים – הוא עשוי מחומרים שעומדים בתקנים Class 1–100, אין ייצור של חלקיקים במהלך הפעולה, והמשטח שלו מונע קיומם של פגמים.

נורת אפיית התנגדות UV עמוק (DUV)

Mon, 01 Jun 2026 17:44:52 +0800

On the lithography floor, a 0.2°C drift in resist bake temperature isn’t a “small deviation.” It’s yield walking out the door. Soft bake sets the solvent profile. Hard bake locks the image. Both need heat delivery that repeats, wafer after wafer. When the bake profile wobbles, CD control slips, scum hangs around, and rinse residues show up after development. Our DUV resist bake lamp leans on near-infrared heating to build a stable thermal field with sub-millimeter uniformity. You get wafer-level temperature control that stays inside tight thermal budgets, so every soft bake and hard bake lands the same as the last run. Infrared energy couples straight into the resist, which cuts lag and overshoot. Repeatability isn’t a slogan—it shows up as setpoint after setpoint, cycle after cycle. The short version? It stays consistent because the heat goes where it’s needed, when it’s needed. The lamp fits cleanroom reality from Class 1 to Class 100. It generates low particles and stays out of the airstream. Zero particle generation keeps the resist stack clean, and the unit runs 24/7 without forcing unplanned stops. You end up with tighter critical dimensions, fewer rework lots, and predictable bake performance on DUV photoresist. Energy use drops because heat is delivered on-demand, not wasted heating up chamber mass. Here’s what matters on install: pay attention to orientation and airflow. The lamp performs best when the optical path stays clean and the thermal mass around the target is controlled. Matching the lamp to your existing bake station footprint may need minor mechanical tweaks. Plan a short commissioning run to lock in the recipe, then the process stays stable.

Bake on Patio Infrared Heating Comfort

רכיב חימום לתהליך הליתוגרפיה

נורת אפיית התנגדות UV עמוק (DUV)