Dukungan teknis untuk pemanasan wafer

Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800

Di lini produksi litografi, kita akan segera menyadari bahwa sedikit saja perubahan suhu, bahkan setengah derajat saja, sudah cukup untuk membuat kualitas CD tidak memenuhi standar yang ditetapkan. Jika proses pemanasan berlangsung terlalu panas di bagian tepi, maka akan muncul endapan yang menghambat proses inspeksi. Pemanasan wafer bukanlah proses yang bisa diabaikan begitu saja; hal ini sangat penting untuk menentukan tingkat ketepatan suhu pada setiap lapisan yang dibuat. Jika tingkat keseragaman suhu tidak terjaga, maka chip tersebut tidak akan bisa dikirim ke pelanggan—dan kita harus menghabiskan waktu untuk memperbaiki masalah tersebut.

Pemanas pendukung penghilangan fotoresist

Sun, 31 May 2026 23:48:34 +0800

Di lantai litografi, proses stripping bukanlah sekadar pemberhentian pasif—ini adalah proses termal yang harus berjalan bersih. Photoresist harus terangkat sepenuhnya, tanpa residu, tanpa pengendapan ulang, dan tanpa memberikan tekanan pada tumpukan wafer. Ketika pemanas pendukung tidak mencapai target, lini produksi langsung merasakannya. Cacat mulai muncul. Jumlah partikel meningkat. Dan lembar hasil produksi menunjukkan setiap derajat pergeseran.

Kami merancang pemanas pendukung stripping photoresist ini untuk mengatasi momen tersebut dengan kontrol suhu yang dapat diulang dan bahan yang siap untuk cleanroom. Dalam manufaktur semikonduktor, perilaku termal adalah perilaku proses—kedua hal tersebut tidak dapat dipisahkan.

Dukungan on Patio Infrared Heating Comfort

Dukungan teknis untuk pemanasan wafer

Pemanas pendukung penghilangan fotoresist