<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Mengupas on Patio Infrared Heating Comfort</title>
		<link>http://patio-ir-comfort.com/id/tags/mengupas/</link>
		<description>Recent content in Mengupas on Patio Infrared Heating Comfort</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 31 May 2026 23:48:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://patio-ir-comfort.com/id/tags/mengupas/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas pendukung penghilangan fotoresist</title>
				<link>http://patio-ir-comfort.com/id/posts/photoresist-stripping-support-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 23:48:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://patio-ir-comfort.com/id/posts/photoresist-stripping-support-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-comfort.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Pemanas pendukung penghilangan fotoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai litografi, proses stripping bukanlah sekadar pemberhentian pasif—ini adalah proses termal yang harus berjalan bersih. Photoresist harus &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;terangkat&lt;/a&gt; sepenuhnya, tanpa residu, tanpa pengendapan ulang, dan tanpa memberikan tekanan pada tumpukan wafer. Ketika pemanas pendukung tidak mencapai target, lini produksi langsung merasakannya. Cacat mulai muncul. Jumlah partikel meningkat. Dan lembar hasil produksi menunjukkan setiap derajat pergeseran.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami merancang pemanas pendukung stripping photoresist ini &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;untuk&lt;/a&gt; mengatasi momen tersebut dengan kontrol suhu yang dapat diulang dan bahan yang siap untuk cleanroom. Dalam manufaktur semikonduktor, perilaku termal adalah perilaku proses—kedua hal tersebut tidak dapat dipisahkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
