Elemen pemanas untuk proses litografi jenis soft bake .

Wed, 01 Jul 2026 06:41:43 +0800

Di fasilitas litografi, suhu pemanasan yang tepat bukanlah hal yang bisa diabaikan—itu merupakan batasan yang harus dipatuhi. Diperlukan proses penghilangan pelarut yang konsisten, dari ujung ke ujung, pada setiap wafer. Sedikit saja perubahan suhu atau adanya titik panas akan merusak akurasi kontrol suhu tersebut. Kami merancang elemen pemanas yang dapat beroperasi dalam batasan suhu tersebut, hari demi hari.

Apa yang penting secara teknis
Elemen pemanas ini menggunakan gelombang inframerah pendek (NIR) tipe kuarsa-halogen. Hal ini memungkinkan respons termal yang cepat dan kontrol suhu yang akurat di stasiun pemanasan. Suhu target dapat dipertahankan pada tingkat keseragaman ±0,1°C di seluruh permukaan wafer, sehingga setiap proses pemanasan menghasilkan hasil yang sama. Kompatibilitas dengan lingkungan ruang bersih juga terjamin: bahan-bahan yang digunakan sesuai standar Kelas 1–100, tidak ada partikel yang dihasilkan selama operasi, dan permukaannya memiliki tekstur yang baik sehingga defeknya minim.

Lampu pemanggang resist Deep UV (DUV)

Mon, 01 Jun 2026 17:44:52 +0800

Pada lantai litografi, pergeseran suhu pemanggangan resist sebesar 0,2°C bukanlah “deviasi kecil.” Itu berarti hasil produksi yang hilang. Soft bake mengatur profil pelarut. Hard bake mengunci citra. Keduanya membutuhkan pengantaran panas yang konsisten, wafer demi wafer. Ketika profil pemanggangan bergeser, kontrol CD melemah, residu menempel, dan sisa bilasan muncul setelah proses pengembangan.

Lampu pemanggangan resist DUV kami mengandalkan pemanasan inframerah dekat untuk membangun medan termal yang stabil dengan uniformitas sub-milimeter. Anda mendapatkan kontrol suhu tingkat wafer yang tetap dalam batas termal yang ketat, sehingga setiap soft bake dan hard bake berakhir sama dengan proses sebelumnya. Energi inframerah langsung terserap oleh resist, yang mengurangi keterlambatan dan overshoot. Repetabilitas bukan sekadar slogan — ini terlihat dari setpoint ke setpoint, siklus demi siklus.

Panggang on Patio Infrared Heating Comfort

Elemen pemanas untuk proses litografi jenis soft bake .

Lampu pemanggang resist Deep UV (DUV)