Elemento riscaldante per ossidazione dei wafer

Mon, 06 Jul 2026 03:43:58 +0800

Introduzione
Parliamo seriamente degli elementi di riscaldamento a infrarossi utilizzati negli impianti per l’ossidazione delle wafer. La domanda fondamentale è semplice: una lampada a infrarossi per uso domestico può davvero sostituire quella importata, senza costringere a effettuare modifiche importanti sull’impianto o senza rischiare per il processo di produzione?
La risposta breve è sì, purché la progettazione sia corretta. E infatti lo è.

Potenza e caratteristiche fisiche
Questo elemento di riscaldamento funziona con una potenza elevata: 400V, 2500W. Questa potenza è esattamente ciò che serve per raggiungere rapidamente la temperatura desiderata e mantenere costante il funzionamento della camera di ossidazione.
L’elemento è realizzato sotto forma di tubo lungo 300 mm; questa lunghezza non è casuale: corrisponde alla geometria interna degli impianti standard, in modo che il calore venga distribuito uniformemente su tutta la superficie della wafer, senza zone fredde o aree scarsamente riscaldate.

Ossidazione on Patio Infrared Heating Comfort

Elemento riscaldante per ossidazione dei wafer