Lampada per la rimozione dell umidità nei wafer

Sat, 20 Jun 2026 01:58:24 +0800

Nella linea da 300 mm, l’umidità rimasta dopo la pulizia rappresenta un problema silenzioso che si manifesta solo quando è troppo tardi. Questa umidità penetra nello strato di fotorestitente, alterando il bilancio termico; in seguito all’esposizione, si manifesta come difetti sulla superficie del wafer. La lampada per la rimozione dell’umidità è stata progettata apposta per contrastare questo fenomeno fin dall’inizio.

Cosa è importante nel funzionamento della lampada
Utilizziamo lampade a ioduro di quarzo a onde corte, dotate di filamenti ad alta risposta, in modo che il calore venga distribuito esattamente dove è necessario, in modo rapido e localizzato. La tolleranza di temperatura è di ±0,1°C su tutta la superficie del wafer, ed è proprio per questo che i parametri di essiccazione vengono mantenuti costanti, shift dopo shift.

Rimozione on Patio Infrared Heating Comfort

Lampada per la rimozione dell umidità nei wafer