Lampa a forno a carbonio di silicio (SiC)

Thu, 25 Jun 2026 01:17:51 +0800

Nel processo di produzione, la deriva termica non è certo una teoria: si tratta di un problema reale che può compromettere l’intero processo. La cottura dei wafer, la solidificazione del fotoresist, l’essiccazione successiva e tutti gli altri passaggi dipendono tutti da un preciso controllo termico. Se il valore di temperatura richiesto non viene mantenuto, si verificano problemi nella regolazione delle dimensioni critiche dei componenti, diminuisce l’aderenza tra i vari elementi e aumentano i difetti nei prodotti finiti.

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Lampa a forno a carbonio di silicio (SiC)