Supporto tecnico per il riscaldamento dei wafer

Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800

Nel reparto di litografia, si impara rapidamente che anche un piccolo cambiamento nella temperatura durante il processo di cottura del fotoresist può far sì che i valori di CD non siano conformi ai requisiti richiesti. Inoltre, se la temperatura aumenta troppo sui bordi del wafer, si verificheranno problemi legati all’inspettione dei componenti prodotti. Il riscaldamento del wafer non è certo un passaggio secondario: esso determina infatti il “budget termico” necessario per ogni strato da realizzare. Quando l’uniformità della temperatura non è garantita, i componenti prodotti non possono essere consegnati; bisogna quindi dedicare molto tempo per correggere tali difetti.

Riscaldatore di supporto per la rimozione del photoresist

Sun, 31 May 2026 23:48:34 +0800

Sulla linea di litografia, lo stripping non è una semplice sosta passiva, ma un processo termico che deve svolgere il proprio compito in modo pulito. È necessario che il photoresist si sollevi completamente, senza residui, senza re-depositi e senza stressare la pila di wafer. Quando il riscaldatore di supporto non raggiunge la temperatura desiderata, la linea lo percepisce immediatamente. I difetti aumentano. Il conteggio delle particelle cresce. E il foglio di resa mostra ogni grado di deriva.
Abbiamo progettato il riscaldatore di supporto per lo stripping del photoresist per gestire questo momento con un controllo della temperatura ripetibile e materiali idonei all’uso in cleanroom. Nella produzione di semiconduttori, il comportamento termico è comportamento di processo—non si possono separare i due aspetti.

Supporto on Patio Infrared Heating Comfort

Supporto tecnico per il riscaldamento dei wafer

Riscaldatore di supporto per la rimozione del photoresist