Supporto tecnico per il riscaldamento dei wafer

Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800

Nel reparto di litografia, si impara rapidamente che anche un piccolo cambiamento nella temperatura durante il processo di cottura del fotoresist può far sì che i valori di CD non siano conformi ai requisiti richiesti. Inoltre, se la temperatura aumenta troppo sui bordi del wafer, si verificheranno problemi legati all’inspettione dei componenti prodotti. Il riscaldamento del wafer non è certo un passaggio secondario: esso determina infatti il “budget termico” necessario per ogni strato da realizzare. Quando l’uniformità della temperatura non è garantita, i componenti prodotti non possono essere consegnati; bisogna quindi dedicare molto tempo per correggere tali difetti.

Tecnico on Patio Infrared Heating Comfort

Supporto tecnico per il riscaldamento dei wafer