http://patio-ir-comfort.com/ja/tags/%E7%84%BC%E3%81%8F/ Recent content in 焼く on Patio Infrared Heating Comfort Hugo ja Wed, 01 Jul 2026 06:41:37 +0800 http://patio-ir-comfort.com/ja/posts/lithography-soft-bake-heating-element/ Wed, 01 Jul 2026 06:41:37 +0800 http://patio-ir-comfort.com/ja/posts/lithography-soft-bake-heating-element/ <p><img src="http://patio-ir-comfort.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="リソグラフィー用ソフトベイク加熱素子"></p> <p>リソグラフィーの工程では、ソフトベイクの温度は単なる希望値ではなく、厳守すべき基準です。すべてのウェハー上で、端から端まで一貫した溶剤除去が必要です。わずか数度の温度変動やホットスポットがあるだけで、CDの精度が崩れてしまいます。私たちは、この基準を守り続けられるような<a href="https://o-yate.net">加熱素子</a>を開発しました。</p> http://patio-ir-comfort.com/ja/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ Mon, 01 Jun 2026 17:44:52 +0800 http://patio-ir-comfort.com/ja/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ <p><img src="http://patio-ir-comfort.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="深紫外線 DUV レジストベークランプ"></p> <h1 id="role">Role</h1> <p>リソグラフィフロアでは、レジストベイク温度の0.2℃のドリフトは「小さな偏差」ではありません。それは歩留まりが出口から失われることを意味します。ソフトベイクは溶剤のプロファイルを設定し、ハードベイクはイメージを固定します。どちらもウェハごとに繰り返し同じ熱供給が必要です。ベイクプロファイルが不安定になると、CD制御が乱れ、スカムが残留し、現像後にリンス残渣が発生します。</p>