http://patio-ir-comfort.com/ko/tags/%EC%A7%80%EC%9B%90%ED%95%98%EB%8B%A4/ Recent content in 지원하다 on Patio Infrared Heating Comfort Hugo ko Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800 http://patio-ir-comfort.com/ko/posts/technical-support-for-wafer-heating/ Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800 http://patio-ir-comfort.com/ko/posts/technical-support-for-wafer-heating/ <p><img src="http://patio-ir-comfort.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="웨이퍼 가열을 위한 기술 지원"></p> <p>리소그래피 공정에서는, 단지 0.5도만큼의 온도 변화라도 발생해도 CD의 편차가 허용 범위를 벗어난다는 것을 금방 깨닫게 됩니다. 또한, 가열 과정에서 열이 과도하게 분포되면 검사에 문제가 생깁니다. 웨이퍼 가열은 그냥 사소한 과정이 아닙니다. 이는 패턴이 형성될 각 층의 열 상태를 결정하는 중요한 요소입니다. 균일성이 저하되면 칩을 출하할 수 없으며, 계속해서 문제를 해결해야 합니다.</p> http://patio-ir-comfort.com/ko/posts/photoresist-stripping-support-heater/ Sun, 31 May 2026 23:48:34 +0800 http://patio-ir-comfort.com/ko/posts/photoresist-stripping-support-heater/ <p><img src="http://patio-ir-comfort.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="포토레지스트 제거용 서포트 히터"></p> <p>리소그래피 공정에서 스트리핑은 단순한 정지 과정이 아니라, 반드시 깔끔하게 수행되어야 하는 열 공정이다. 포토레지스트가 완전히 제거되어야 하며 잔류물, 재침착 없이 웨이퍼 스택에 스트레스를 가하지 않아야 한다. 서포트 히터가 목표 온도에 도달하지 못하면 즉시 라인에 영향이 나타난다. 결함이 발생하고 입자 수가 증가하며 생산 수율 시트에 모든 편차가 기록된다.<br> 우리는 이 포토레지스트 스트리핑 서포트 히터를 반복 가능한 온도 제어와 클린룸 대응 재료로 설계하였다. 반도체 제조에서 열 거동은 공정 거동과 동일하며, 둘을 분리할 수 없다.</p>