http://patio-ir-comfort.com/ms/tags/bakar/ Recent content in Bakar on Patio Infrared Heating Comfort Hugo ms Wed, 01 Jul 2026 06:41:45 +0800 http://patio-ir-comfort.com/ms/posts/lithography-soft-bake-heating-element/ Wed, 01 Jul 2026 06:41:45 +0800 http://patio-ir-comfort.com/ms/posts/lithography-soft-bake-heating-element/ <p><img src="http://patio-ir-comfort.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Unsur pemanas untuk proses lithografi jenis soft bake ."></p> <p>Dalam proses litografi, suhu pemanasan yang sesuai bukanlah sesuatu yang boleh dipilih secara sembarangan – ia merupakan syarat wajib yang perlu dipatuhi. Anda perlu memastikan penghapusan pelarut berlaku secara konsisten di setiap bahagian wafer. Sebarang perbezaan suhu sebanyak beberapa darjah atau adanya kawasan yang terlalu panas akan menyebabkan kawalan suhu menjadi tidak efektif. Kami telah merancang komponen pemanasan agar dapat berfungsi dalam batasan suhu tersebut, hari demi hari.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Komponen pemanasan ini menggunakan gelombang inframerah jarak dekat jenis kuarsa-halogen. Ini membolehkan tindak balas termal yang cepat serta kawalan suhu yang tepat. Suhu sasaran dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C secara seragam di seluruh permukaan wafer. Bahan-bahan yang digunakan juga memenuhi standard bilik bersih kelas 1–100; tiada zarah yang dihasilkan semasa <a href="https://o-yate.com">operasi</a>, dan permukaannya juga bebas daripada kecacatan.</p> http://patio-ir-comfort.com/ms/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ Mon, 01 Jun 2026 17:44:52 +0800 http://patio-ir-comfort.com/ms/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ <p><img src="http://patio-ir-comfort.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Lampu pembakar penahan UV Dalam (DUV)"></p> <p>Pada lantai litografi, pergeseran suhu penaik resist sebesar 0.2°C bukanlah “penyimpangan kecil.” Ia bermakna hasil pengeluaran yang hilang. Soft bake menetapkan profil pelarut. Hard bake mengunci imej. Kedua-duanya memerlukan penghantaran haba yang konsisten, wafer demi wafer. Apabila profil penaikan tidak stabil, kawalan CD tergelincir, sisa <a href="https://henruite.com">kotoran</a> kekal, dan residu bilasan muncul selepas pembangunan.</p> <p>Lampu penaik resist DUV kami menggunakan pemanasan inframerah hampir untuk membina medan terma yang stabil dengan keseragaman sub-milimeter. Anda mendapat kawalan suhu pada tahap wafer yang kekal dalam bajet terma yang ketat, supaya setiap soft bake dan hard bake menghasilkan keputusan yang sama seperti larian sebelumnya. Tenaga inframerah terus disalurkan ke resist, mengurangkan kelewatan dan lebihan suhu. Kebolehulangan bukan sekadar slogan—ia terbukti melalui setpoint demi setpoint, <a href="https://o-yate.com">kitaran</a> demi kitaran.</p>