<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotolak on Patio Infrared Heating Comfort</title>
		<link>http://patio-ir-comfort.com/nl/tags/fotolak/</link>
		<description>Recent content in Fotolak on Patio Infrared Heating Comfort</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 31 May 2026 23:48:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://patio-ir-comfort.com/nl/tags/fotolak/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Ondersteuningsverwarmer voor het verwijderen van fotoresist</title>
				<link>http://patio-ir-comfort.com/nl/posts/photoresist-stripping-support-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 23:48:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://patio-ir-comfort.com/nl/posts/photoresist-stripping-support-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-comfort.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Ondersteuningsverwarmer voor het verwijderen van fotoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de lithografievloer is stripping geen passieve tussenstop maar een thermisch proces dat zijn werk schoon moet doen. De fotoresist moet volledig loskomen, zonder residu, zonder herdepositie en zonder spanning in de waferstapel. Wanneer de ondersteuningsverwarmer niet aan de eisen voldoet, merkt de productielijn dat direct. Defecten sluipen binnen. Het aantal deeltjes stijgt. En het opbrengstblad toont elke graad van afwijking.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;We hebben de fotoresist stripping ondersteuningsverwarmer ontworpen om dat moment aan te kunnen met herhaalbare temperatuurregeling en materialen geschikt voor cleanroomomgevingen. In de halfgeleiderproductie is thermisch gedrag procesgedrag—de twee zijn onlosmakelijk verbonden.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
