Technische ondersteuning voor het verwarmen van wafers

Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800

Op de afdeling voor lithografie leer je snel dat zelfs een verschil van een halve graad in de temperatuur al voldoende is om de kwaliteit van de CD’s te beïnvloeden. Als de hitteoverdracht aan de randen te groot wordt, ontstaan er oneffenheden die het mogelijk maken om de producten niet te controleren. Het verhitten van de siliciumplaten is geen onbelangrijk onderdeel van het proces; het bepaalt namelijk de thermische condities voor iedere laag die wordt gemaakt. Als de uniformiteit niet goed is, kan het product niet worden geleverd – je moet dan de hele dag bezig zijn met het verbeteren van de kwaliteit.

Ondersteuningsverwarmer voor het verwijderen van fotoresist

Sun, 31 May 2026 23:48:34 +0800

Op de lithografievloer is stripping geen passieve tussenstop maar een thermisch proces dat zijn werk schoon moet doen. De fotoresist moet volledig loskomen, zonder residu, zonder herdepositie en zonder spanning in de waferstapel. Wanneer de ondersteuningsverwarmer niet aan de eisen voldoet, merkt de productielijn dat direct. Defecten sluipen binnen. Het aantal deeltjes stijgt. En het opbrengstblad toont elke graad van afwijking.

We hebben de fotoresist stripping ondersteuningsverwarmer ontworpen om dat moment aan te kunnen met herhaalbare temperatuurregeling en materialen geschikt voor cleanroomomgevingen. In de halfgeleiderproductie is thermisch gedrag procesgedrag—de twee zijn onlosmakelijk verbonden.

Ondersteuning on Patio Infrared Heating Comfort

Technische ondersteuning voor het verwarmen van wafers

Ondersteuningsverwarmer voor het verwijderen van fotoresist