Koolstofsilicium (SiC) ovenslamp

Thu, 25 Jun 2026 01:17:51 +0800

Op dit gebied is thermische drift geen theorie – het is gewoon onbruikbaar. Het drogen van de wafers, het verhitten van de fotoresist, het harden van de encapsulant en het drogen na het reinigen: al deze processen hangen af van een nauwkeurige temperatuurregeling. Als de gewenste temperatuur niet wordt behouden, gaat de controle over de precisie van de dimensies verloren, neemt de hechting af en levert dat tot fouten in het eindproduct.

Wat belangrijk is voor het proces We gebruiken een SiC-ovenlamp die snel en zuiver infraroodlicht levert, met een nauwkeurige temperatuurregeling. De emitters zijn zo ontworpen dat ze snel op temperatuur kunnen komen en een stabiele toestand kunnen behouden. Hierdoor kan de temperatuur perfect worden gecontroleerd, zelfs tot op een paar tienden van een graad. De apparatuur is geschikt voor gebruik in een schone omgeving: materiaal met minimale uitstoot van gassen, een route waarbij de concentratie van deeltjes minimaal is, en een constructie die past in omgevingen van klasse 1–100. In praktijk betekent dit dat er consistente resultaten worden behaald, zonder risico’s van luchtkontaminatie.

Silicium on Patio Infrared Heating Comfort

Koolstofsilicium (SiC) ovenslamp