Lithografie zachte bakverwarmingselement

Wed, 01 Jul 2026 06:41:47 +0800

Op de lithografieafdeling is een lage verhittingstemperatuur geen keuze – het is een strikte eis. Het is nodig dat de oplosmiddelen op alle plaatsen op de wafer gelijkmatig worden verwijderd. Een kleine afwijking in temperatuur of een ‘hot spot’ kan leiden tot problemen met de kwaliteit van de wafer. We hebben de verwarmingscomponent zo ontworpen dat deze zich binnen deze grenzen bevindt, dag na dag.

Wat technisch gezien belangrijk is: De verwarmingscomponent maakt gebruik van kortegolflengte-infraroodstraling (NIR). Dit zorgt voor een snelle thermische reactie en nauwkeurige controle tijdens het verhitten. De gewenste temperatuur wordt behouden met een nauwkeurigheid van ±0,1°C over het hele oppervlak van de wafer. Hierdoor blijft de kwaliteit constant. De component is ook geschikt voor gebruik in schone ruimtes: er worden materialen gebruikt die voldoen aan de vereisten van klasse 1–100. Er wordt geen stof gegenereerd tijdens het gebruik, en het oppervlak heeft een uitstekende kwaliteit, waardoor defecten worden voorkomen.

Zacht on Patio Infrared Heating Comfort

Lithografie zachte bakverwarmingselement