Suporte técnico para aquecimento de wafers

Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800

Na área de litografia, é preciso aprender rapidamente que mesmo uma variação de meio grau na temperatura durante o processo de aquecimento faz com que as especificações do CD sejam ultrapassadas. Se o aquecimento for excessivo nas bordas do wafer, isso causará problemas que impossibilitam a inspeção adequada. O aquecimento do wafer não é um procedimento secundário; ele determina o “orçamento térmico” para cada camada que será criada. Quando a uniformidade é comprometida, não é possível enviar o wafer para produção – é preciso investir tempo tentando corrigir essas irregularidades.

Aquecedor de suporte para remoção de fotorresiste

Sun, 31 May 2026 23:48:33 +0800

No piso de litografia, o stripping não é uma parada passiva—é um processo térmico que precisa cumprir sua função de forma limpa. É necessário que o fotoresiste se desprenda completamente, sem resíduos, sem redepósito e sem causar estresse na pilha do wafer. Quando o aquecedor de suporte falha, a linha sente isso imediatamente. Defeitos surgem. A contagem de partículas aumenta. E a ficha de rendimento registra cada grau de desvio.

Projetamos o aquecedor de suporte para stripping de fotoresiste para lidar com esse momento com controle de temperatura repetível e materiais compatíveis com sala limpa. Na fabricação de semicondutores, comportamento térmico é comportamento do processo—não há como separar os dois.

Apoio on Patio Infrared Heating Comfort

Suporte técnico para aquecimento de wafers

Aquecedor de suporte para remoção de fotorresiste