Elemento de aquecimento para processo de litografia por cozimento suave

Wed, 01 Jul 2026 06:41:31 +0800

Na área de litografia, a temperatura de cozimento adequada não é apenas uma preferência – é um requisito essencial. É necessário que a remoção do solvente seja consistente, em toda a superfície da placa fotolítica. Qualquer desvio de poucos graus ou pontos quentes pode comprometer o controle da qualidade das placas. Desenvolvemos o elemento de aquecimento para que funcione dentro desses limites, dia após dia.

O que é importante, tecnicamente:
O elemento utilizado é de ondas infravermelhas de curta distância (NIR), feito de quartzo e halogênio. Isso garante uma resposta térmica rápida e um controle preciso durante o processo de cozimento. A temperatura desejada é mantida com precisão de ±0,1°C em toda a superfície da placa fotolítica, garantindo assim resultados consistentes em cada processo. A compatibilidade com ambientes de sala limpa também é garantida: materiais compatíveis com as normas de Classe 1–100, sem geração de partículas durante o funcionamento, e um acabamento superficial que reduz os defeitos.

Lâmpada de cura para resiste DUV (ultravioleta profundo)

Mon, 01 Jun 2026 17:44:52 +0800

No piso de litografia, uma variação de 0,2°C na temperatura de bake do resist não é uma “pequena diferença”. É rendimento que sai pela porta. O soft bake define o perfil do solvente. O hard bake fixa a imagem. Ambos exigem entrega de calor que se repete, wafer após wafer. Quando o perfil de bake oscila, o controle de CD falha, resíduos permanecem e vestígios de enxágue aparecem após o desenvolvimento.

Nossa lâmpada de bake de resist DUV utiliza aquecimento por infravermelho próximo para criar um campo térmico estável com uniformidade submilimétrica. Você obtém controle de temperatura ao nível do wafer que se mantém dentro de orçamentos térmicos rigorosos, garantindo que cada soft bake e hard bake seja igual ao da execução anterior. A energia infravermelha acopla diretamente no resist, reduzindo atraso e ultrapassagem. A repetibilidade não é um slogan — manifesta-se em ponto de ajuste após ponto de ajuste, ciclo após ciclo.

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Elemento de aquecimento para processo de litografia por cozimento suave

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