Lâmpada para remoção de umidade em wafers

Sat, 20 Jun 2026 01:58:24 +0800

Na linha de 300 mm, a umidade residual após a limpeza é um problema silencioso que só é percebido quando já é tarde demais. Essa umidade penetra na camada de fotoresistente, afetando o equilíbrio térmico do processo de exposição. Isso resulta em imperfeições na superfície do wafer após a exposição. A lâmpada utilizada para remover a umidade do wafer foi desenvolvida justamente para evitar esse problema desde a sua origem.

O que é importante por trás disso tudo Utilizamos lâmpadas de quartzo halógenas de onda curta, com filamentos de resposta rápida. Assim, o calor é aplicado exatamente onde é necessário, de maneira rápida e localizada. A precisão desejada é de ±0,1°C em toda a área de cozimento, e é por isso que os parâmetros de cozimento permanecem constantes, de turno em turno.

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Lâmpada para remoção de umidade em wafers