Поддержка on Patio Infrared Heating Comfort

Техническая поддержка нагрева вафер

Thu, 18 Jun 2026 01:02:14 +0800

На производстве по технологии литографии быстро понимаешь, что даже небольшое отклонение температуры в полградуса может привести к нарушению параметров формирования изображения на диске. А если процесс нагрева происходит слишком интенсивно по периметру диска, это приводит к образованию на его поверхности нежелательных отложений, что делает возможную проверку качества невозможной. Нагрев пластины — это не просто дополнительный этап производства. Он определяет тепловые условия для каждого слоя, который формируется на пластине. Если степень однородности нарушается, диск нельзя отправлять в эксплуатацию — придется тратить время на устранение отклонений.

Нагреватель для поддержки удаления фоторезиста

Sun, 31 May 2026 23:48:34 +0800

На литографическом этаже снятие фоторезиста — это не пассивная остановка, а термический процесс, который должен выполняться чисто. Необходимо, чтобы фоторезист полностью отделялся без остатков, без повторного осаждения и без напряжений в стеке пластин. Если нагреватель подложки не работает точно, линия сразу это почувствует. Появляются дефекты. Количество частиц растёт. И на листе выхода отражается каждый градус отклонения.

Мы разработали нагреватель поддержки для снятия фоторезиста с повторяемым контролем температуры и материалами, пригодными для чистых помещений. В производстве полупроводников тепловое поведение равно процессу — нельзя их разделять.