Litografi yumuşak pişirme ısıtma elemanı

Wed, 01 Jul 2026 06:41:41 +0800

Litografi sürecinde, düşük sıcaklıkta pişirme işlemi bir tercih değil, zorunlu bir kuraldır. Her bir wafer üzerinde, kenardan köşeye kadar tutarlı bir şekilde çözücünün uzaklaştırılması gerekiyor. Birkaç derecelik bir sapma bile, CD kontrolünün bozulmasına neden olur. Isıtma elemanını bu sınır içinde kalacak şekilde tasarladık; böylece günler boyunca orada kalabilir.

Teknik açıdan önemli olanlar:
Bu eleman, kısa dalga boyunda infraruj ışık kullanan ve kuvars-halojen yapısında olan bir cihazdır. Bu sayede hızlı termal tepki verir ve pişirme işleminde kesin kontrol sağlanır. Hedeflenen sıcaklık, wafer yüzeyinde ±0,1°C’lik bir düzeyde sabit kalır; böylece her seferinde aynı sonuç elde edilir. Temiz oda koşullarına uygun malzemeler kullanılır; işletim sırasında hiçbir parça oluşmaz ve yüzey pürüzlülüğü de en aza indirilir.

Derin UV (DUV) rezist pişirme lambası

Mon, 01 Jun 2026 17:44:52 +0800

Lithografi katında, rezist pişirme sıcaklığındaki 0.2°C’lik bir sapma “küçük bir sapma” değildir. Bu, verimin kapıdan dışarı çıkması demektir. Soft bake solvent profilini belirler. Hard bake görüntüyü kilitler. İkisi de, her bir wafer için tekrarlanan ısıtma sağlanmasını gerektirir. Pişirme profili dalgalandığında, CD kontrolü bozulur, kalıntılar kalır ve geliştirme sonrası durulama artıklarına rastlanır.

DUV rezist pişirme lambamız, kararlı bir termal alan oluşturmak için yakın kızılötesi ısıtmayı kullanır ve alt milimetre düzeyinde uniformite sağlar. Bu sayede, sıkı ısıl bütçeler içinde kalan wafer seviyesinde sıcaklık kontrolü elde edilir; böylece her soft bake ve hard bake, bir öncekiyle aynı sonuç verir. Kızılötesi enerji doğrudan reziste iletilir; bu da gecikme ve aşırı ısınmayı azaltır. Tekrarlanabilirlik bir slogan değil—setpoint setpoint, döngü döngü olarak kendini gösterir.

Pişir on Patio Infrared Heating Comfort

Litografi yumuşak pişirme ısıtma elemanı

Derin UV (DUV) rezist pişirme lambası