در فرآیندهای تولید، انحرافات حرارتی موضوعی نظری نیستند؛ بلکه مشکلات واقعی هستند. خشک کردن ویفرها، پختن فوتورزیست، فرآیندهای لازم برای تثبیت مواد، و خشک کردن مواد پس از تمیزکاری، همگی به کنترل دقیق دما وابستهاند. اگر دمای مورد نظر حفظ نشود، کنترل ابعاد مهم محدود میشود، چسبندگی مواد کاهش مییابد، و محصولات دارای نقص خواهند بود.
چه چیزهایی در این فرآیندها اهمیت دارد؟
ما از لامپهایی با فناوری SiC استفاده میکنیم که گرمای مادون قرمز سریع و تمیزی را ارائه میدهند، همراه با کنترل دقیق دما. این لامپها برای ایجاد تغییرات سریع دما و حفظ وضعیت پایدار طراحی شدهاند؛ بنابراین میتوان دمای محیط را در محدوده دهمین بخش درجه حفظ کرد. این سیستم برای استفاده در محیطهای پاکسازیشده مناسب است؛ چرا که از موادی با میزان گازهای خارج شونده کم استفاده میشود، مسیرهای انتقال گاز کنترل میشوند، و ساختار آن مناسب محیطهای کلاس ۱ تا ۱۰۰ است. در عمل، این امر منجر به داشتن الگوهای پختن یکنواخت و بازدهی یکنواخت میشود، بدون ایجاد خطرات ناشی از آلودگیهای هوا.
چرا این روش در فرآیندهای واقعی مؤثر است؟
در فرآیند خشک کردن ویفرها، این لامپها رطوبت سطحی را به سرعت از بین میبرند، بدون اینکه سطح ویفر آسیب ببیند. در فرآیندهای لیتوگرافی، این لامپها باعث پختن یکنواخت فوتورزیست میشوند؛ بنابراین عرض خطوط و الگوهای مربوطه در محدوده مشخصات مورد نظر باقی میمانند. در فرآیندهای بستهبندی، این لامپها باعث تثبیت مواد مورد استفاده میشوند؛ بنابراین از خرابیهای ناشی از وجود حفرهها جلوگیری میشود. نتیجه این امر، کاهش تغییرات دما، زمانهای پختن پایدار، و مصرف انرژی کمتر در هر دسته از محصولات است؛ چرا که گرما فقط در زمان لازم تأمین میشود، و از هدر رفتن انرژی جلوگیری میشود.
در مورد یکپارچهسازی، این لامپها میتوانند در پورتهای استاندارد فر درآیند، اما هنوز هم باید ابعاد رابطها، اتصالات توان، و سیگنالهای کنترلی را بررسی کرد. پس از شروع کار، انتظار یک دوره کوتاه برای استабیل شدن دما وجود دارد؛ بنابراین باید این زمان را در فرآیند تولید در نظر گرفت تا زمانهای پختن دقیق باقی بمانند.
برای داشتن یکنواختی بهتر، فاصله بین لامپ و سطح ویفر را در محدوده مشخصات مورد نظر نگه دارید، و بازتابندهها را نیز تمیز نگه دارید. اغلب، مشکلات فرآیندی از سوی سیستمهای نوری شروع میشوند، نه سیستمهای الکترونیکی.