Dalam proses pengeringan wafer, pergerakan suhu bukanlah sesuatu yang boleh dianggap sebagai teori semata-mata; ia merupakan faktor penting yang perlu dikawal dengan teliti. Proses pengeringan wafer, pemanasan bahan photoresist, serta proses pengerasan bahan pelindung semuanya bergantung pada kawalan suhu yang tepat. Jika titik suhu yang ditetapkan tidak dipatuhi, kawalan dimensi komponen akan terjejas, kekuatan ikatan antara komponen akan berkurangan, dan hasil produksi akan penuh dengan kecacatan.
Apa yang penting dalam proses ini?
Kami menggunakan lampu jenis SiC yang mampu menghasilkan haba inframerah yang cepat dan bersih, dengan kawalan suhu yang tepat. Emitter tersebut direka untuk memberikan haba secara cepat dan stabil, sehingga suhu dapat dikawal dengan ketepatan yang sangat tinggi. Komponen-komponen ini juga direka untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih, dengan bahan-bahan yang tidak mengeluarkan gas berbahaya, laluan yang bebas daripada zarah-zarah berbahaya, serta reka bentuk yang sesuai untuk persekitaran kelas 1–100. Dengan cara ini, proses pemanggangan dapat dilakukan secara konsisten, tanpa risiko pencemaran udara.
Mengapa ia efektif dalam proses sebenar?
Dalam proses pengeringan wafer, lampu ini dapat menghilangkan kelembapan pada permukaan wafer dengan cepat, tanpa merosakkan substratnya. Dalam proses litografi, lampu ini memastikan pemanasan bahan photoresist dilakukan secara konsisten, sehingga lebar garis dan profilnya tetap memenuhi spesifikasi yang ditetapkan. Dalam proses pembungkusan pula, lampu ini membantu proses pengerasan bahan pelindung dengan tepat pada waktunya, sekaligus melindungi sambungan antara komponen dan mengelakkan kegagalan akibat adanya rongga di antara komponen tersebut. Hasilnya, proses menjadi lebih konsisten, masa proses menjadi lebih stabil, dan penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana haba diberikan mengikut keperluan, bukan disia-siakan dalam mengekalkan suhu tinggi di dalam chamber tersebut.
Mengenai integrasi komponen:
Lampu ini sesuai digunakan dengan port-standard furnace, namun masih perlu dipastikan dimensi antara komponen, sambungan kuasa, serta isyarat kawalan yang digunakan adalah sesuai. Selepas permulaan proses, perlu ada masa untuk penstabilan suhu. Untuk mendapatkan hasil yang lebih baik, pastikan jarak antara emitter dan substrat tetap sama, dan reflektor juga harus sentiasa bersih. Biasanya, masalah berkaitan proses bermula daripada komponen optik, bukan komponen elektronik.