Mengapa kita menggunakan kaedah pengeringan menggunakan gelombang inframerah untuk wafer
Dalam proses pengeringan dan penyediaan wafer semikonduktor, gelombang inframerah merupakan kaedah yang paling sesuai. Kaedah ini membolehkan kita mengelak daripada menggunakan bahan kimia berbasis pelarut yang bersifat berbahaya, serta membuang keperluan untuk menggunakan ketuhar konveksi yang memerlukan tenaga yang banyak untuk memanaskan permukaan wafer.
Kunci utama penggunaan gelombang inframerah ialah ia mampu menyerap getaran molekul tertentu dalam bahan perekat atau fotoresist. Dengan cara ini, proses penyediaan wafer dapat dilakukan dengan lebih efisien, tanpa perlu memanaskan keseluruhan alat tersebut.
Mengurangkan pembaziran tenaga
Memanaskan udara merupakan cara yang membuang-buang tenaga. Itulah cara kerja ketuhar lama, dan ia menyebabkan pembaziran tenaga yang besar.
Dengan penggunaan lampu inframerah, kita hanya perlu menggunakan radiasi elektromagnetik. Radiasi ini akan menembusi udara dan langsung mengenai permukaan wafer. Proses ini berlaku dengan sangat cepat.
Oleh kerana haba disalurkan terus ke bahan tersebut, alat yang digunakan tidak perlu mempunyai sistem penyejukan yang kompleks. Kita tidak perlu risau tentang suhu yang tidak stabil; kita hanya perlu memastikan tenaga disalurkan ke tempat yang sepatutnya.
Pendekatan mesra alam tanpa masalah
Terdapat tekanan untuk menggunakan bahan yang bebas dari bahan berbahaya dan mesra alam. Kita tidak boleh lagi menggunakan katalis logam berat atau pelarut beracun untuk mempercepatkan proses tersebut.
Namun, kita boleh menyesuaikan panjang gelombang cahaya yang digunakan. Sama ada kita menggunakan gelombang pendek atau gelombang sederhana, kita boleh memastikan cahaya tersebut sesuai dengan bahan yang akan diproses. Dengan cara ini, kita dapat mendapatkan hasil yang sempurna tanpa memerlukan bahan tambahan yang berbahaya. Hanya prinsip fizik yang digunakan untuk mencapai hasil yang diinginkan.
Cabaran yang perlu dihadapi
Namun, ia bukanlah sesuatu yang mudah. Walaupun kita dapat memperoleh kelajuan dan kebersihan yang tinggi, kita perlu berhati-hati dengan intensiti haba yang digunakan. Jika lampu inframerah beroperasi dengan intensiti yang berlebihan, suhu permukaan wafer akan menjadi tidak sekata, sehingga menyebabkan wafer rosak. Untuk mengelakkan perkara ini, kita perlu menggunakan sensor yang dapat memantau permukaan wafer secara masa nyata.
Selain itu, kita juga perlu memastikan sistem penyejukan berfungsi dengan baik. Jika sistem penyejukan tidak mencukupi, komponen lain dalam alat tersebut akan merosak. Biasanya, kita menggunakan sistem maklum balas tertutup untuk memastikan wafer tidak rosak semasa proses pemprosesan.