在光刻工艺中，合适的烘烤温度并非可选项，而是一个必须严格遵守的界限。必须确保每块晶圆上的溶剂都能被均匀去除，且各个区域的温度都保持一致。如果温度出现几度的偏差，或者某个区域过热，那么晶圆的尺寸控制就会失效。因此，我们设计的加热元件必须始终处于这一温度范围内，日复一日地稳定工作。 从技术角度来看，关...

在光刻车间，光刻胶烘烤温度波动0.2°C绝非“小偏差”，而是产量直接流失。软烘烤确定溶剂分布，硬烘烤固定图像。两者都需要热量传递具有重复性，且稳定地应用于每一片晶圆。当烘烤曲线波动时，CD控制失效，残留杂质滞留，显影后出现冲洗残留。 我们的DUV光刻胶烘烤灯依靠近红外加热构建亚毫米均匀度的稳定热场...