Op de 300mm-lijn is vocht dat na het schoonmaken achterblijft een probleem dat pas zichtbaar wordt wanneer het al te laat is. Het dringt door in de lay-out van de fotoresist, waardoor het thermische evenwicht verstoord wordt. Dit leidt tot ongewenste effecten na de belichting. De heaterlamp die wordt gebruikt om het vocht uit de wafer te verwijderen, is ontworpen om dit probleem vanaf de bron tegen te gaan.
Wat belangrijk is We gebruiken halogeenkwartslampen met snelle filamenten, zodat de warmte precies daar terechtkomt waar het nodig is – snel en gericht. De nauwkeurigheid is ±0,1°C over de hele oppervlakte van de wafer. Daarom worden er altijd dezelfde parameters gebruikt voor het bakproces, van batch tot batch.
De apparatuur kan worden gebruikt in zuiverruimtes van klasse 1–100. Hij is gemaakt van materialen die weinig gassen afgeven en heeft een ontwerp dat zorgt voor minimale vorming van deeltjes. De uitgangstemperatuur blijft stabiel tussen 200°C en 450°C, waardoor het desodoriseringsproces en de stabilisatie na het proces zonder problemen kunnen plaatsvinden.
Waarom het werkt Het is belangrijk dat het bakproces op elk moment van de dag op dezelfde manier verloopt. Deze lamp zorgt ervoor dat het oppervlaktovocht wordt verwijderd, de fotoresist wordt gestabiliseerd voor de belichting en dat het eindresultaat goed is. Hierdoor zijn er minder fouten en kan de kwaliteit van het product beter worden gecontroleerd.
De energieverbruik neemt af, omdat de lamp snel op temperatuur komt en soepel kan overschakelen van standby naar werking. De lamp kan 24/7 draaien, zonder onverwachte stilstand. Hij past gemakkelijk in bestaande apparaten, zodat er geen nieuwe configuratie nodig is.
Wat je moet controleren De installatie is eenvoudig, maar het is belangrijk om de lamp op de juiste plek te plaatsen. Houd de lamp binnen de voorgeschreven richtingsafwijking; anders zal er een ongelijke verdeling van de warmte optreden. Behandel het kwarts voorzichtig: geen vingerafdrukken en geen oplosmiddelen op het oppervlak. Controleer ook de emissiviteit van de kamer en de conditie van de reflectoren bij de eerste gebruik.
Er is een korte periode nodig tot de uitgangstemperatuur stabiel is. Daarna kan de setpoint worden vastgesteld en kan het proces doorgaan.