Out on the wafer floor, you know how a soft bake that drifts even 0.2°C will nudge your critical dimensions, and a hard bake that runs hot at the edge can leave scum and residue. We built the cleanroom bench infrared lamp to take that variability out of the equation. Що важливо під капотом Він працює на кварцових випромінювачах у ближньому інфрачервоному спектрі (NIR), забезпечуючи швидкий напрямлений нагрів з мінімальною тепловою затримкою. По всій освітленій зоні ми підтримуємо однорідність на рівні ±0.1°C на рівні ваферу, а система з замкненим контуром стабілізує задану температуру за кілька секунд. Корпус сумісний з чистими приміщеннями класу 1–100, із запаяними з’єднаннями, матеріалами з низьким рівнем дегазації та внутрішнім повітряним каналом, який знижує утворення частинок до однозначних чисел на кубічний фут. Потужність випромінювання залишається стабільною понад 5,000 годин, а повторюваність циклів зберігається. У літографії потрібне стабільне легке попереднє випікання для ефективного видалення розчинників і основне випікання, яке фіксує фоторезист без відхилень. Ця лампа забезпечує обидва процеси з жорстким контролем теплового бюджету. Результатом є краща однорідність критичних розмірів (CD) і зменшене формування облямівки по краю. Крім того, швидка реакція знижує час випікання, що зменшує енергоспоживання і підвищує пропускну здатність. Також зростає технологічний запас, особливо для тонких резистів і багатошарових структур. Менше браку. Менше переробок. Декілька практичних зауважень. Лампа потребує окремого відфільтрованого живлення, і її слід монтувати з достатнім зазором, щоб уникнути затінення або локального перегріву. Температура поверхні під час роботи може значно перевищувати безпечні для дотику значення, тому необхідно передбачити захисні екрани та блокування. Для найкращих результатів узгоджуйте спектр випромінювання з вашим резистним шаром і калібруйте температуру безпосередньо на площині ваферу, а не на корпусі.