晶圆除湿加热灯

在300毫米光刻线上，清洗后残留在芯片上的水分会悄悄影响加工质量，而这种影响往往要等到为时已晚时才会显现出来。这些水分会渗透到光刻胶层中，扰乱工艺参数，从而在曝光后导致不良缺陷的产生。因此，需要使用专门的加热器来消除这些水分，从源头上避免问题。 关键在于精准的控制 我们使用的是具有快速响应特性的短...