标签为“技术”的页面如下 晶圆加热的技术支持 在光刻工序中,人们很快就会明白:哪怕温度偏差只有半度,也足以让CD偏移量超出规定范围。而如果加热过程过于剧烈,那么晶圆表面就会出现污渍,从而影响检测结果。晶圆加热并非简单的辅助步骤,它实际上决定了每一层图案的加工精度。一旦温度均匀性出现问题,就无法继续生产芯片——只能花费大量时间来消除这些偏差。... Read more...
晶圆加热的技术支持 在光刻工序中,人们很快就会明白:哪怕温度偏差只有半度,也足以让CD偏移量超出规定范围。而如果加热过程过于剧烈,那么晶圆表面就会出现污渍,从而影响检测结果。晶圆加热并非简单的辅助步骤,它实际上决定了每一层图案的加工精度。一旦温度均匀性出现问题,就无法继续生产芯片——只能花费大量时间来消除这些偏差。... Read more...