Below you will find pages that utilize the taxonomy term “기술적인 부분” 웨이퍼 가열을 위한 기술 지원 리소그래피 공정에서는, 단지 0.5도만큼의 온도 변화라도 발생해도 CD의 편차가 허용 범위를 벗어난다는 것을 금방 깨닫게 됩니다. 또한, 가열 과정에서 열이 과도하게 분포되면 검사에 문제가 생깁니다. 웨이퍼 가열은 그냥 사소한 과정이 아닙니다. 이는 패턴이 형성될 각... Read more...
웨이퍼 가열을 위한 기술 지원 리소그래피 공정에서는, 단지 0.5도만큼의 온도 변화라도 발생해도 CD의 편차가 허용 범위를 벗어난다는 것을 금방 깨닫게 됩니다. 또한, 가열 과정에서 열이 과도하게 분포되면 검사에 문제가 생깁니다. 웨이퍼 가열은 그냥 사소한 과정이 아닙니다. 이는 패턴이 형성될 각... Read more...