웨이퍼 가열을 위한 기술 지원
리소그래피 공정에서는, 단지 0.5도만큼의 온도 변화라도 발생해도 CD의 편차가 허용 범위를 벗어난다는 것을 금방 깨닫게 됩니다. 또한, 가열 과정에서 열이 과도하게 분포되면 검사에 문제가 생깁니다. 웨이퍼 가열은 그냥 사소한 과정이 아닙니다. 이는 패턴이 형성될 각...
포토레지스트 제거용 서포트 히터
리소그래피 공정에서 스트리핑은 단순한 정지 과정이 아니라, 반드시 깔끔하게 수행되어야 하는 열 공정이다. 포토레지스트가 완전히 제거되어야 하며 잔류물, 재침착 없이 웨이퍼 스택에 스트레스를 가하지 않아야 한다. 서포트 히터가 목표 온도에 도달하지 못하면 즉시 라인에...