ファブの現場では、焼成温度が0.5℃変動するだけで、ウェハの重要な寸法がナノメートル単位で変化してしまいます。そうなると、多くのウェハが廃棄されてしまいます。ウェハ全体の温度均一性や、再現性の高いフォトレジストの特性は理論上の話ではありません。これらこそが、歩留まりを守るために毎シフトで確実に実行すべき要素です。クォーツハロゲン赤外線発光体は、重要な場所で安定した熱を供給します。例えば、ソフトベークやハードベーク、露光前の処理などです。こうした場所では、温度管理が非常に重要であり、わずかな変動でもプロセスに悪影響を与えます。
技術的に重要な点 クォーツハロゲンランプは、迅速で正確なスペクトル制御を持つ短波長の赤外線を放出するため、温度を素早く調整しつつも過剰な加熱を防ぐことができます。私たちは、300mmウェハ全体で±0.1℃以内の均一性を実現するように設計しています。そうすることで、フォトレジスト全体に均一なエネルギーが加わります。また、クリーンルームとの互換性も考慮されており、クラス1～100の環境下でも粒子の発生がないように設計されています。5,000時間以上の使用でも出力の低下は5％未満であり、24時間365日の運用が可能で、メンテナンスも容易です。
なぜこれがリソグラフィーに適しているのか リソグラフィーの工程では、プロセスに合わせて熱を供給する必要があります。この発光体は、プロセスの温度プロファイルに合わせて動作するため、ライン幅のばらつきを減少させ、オーバーレイ性能を向上させます。また、溶剤の蒸発を制御するソフトベークや、ウェハを再処理する必要なく接着力を高めるハードベークも可能です。IR結合が良好で熱容量が低いため、効率が向上し、予期しない停止時間も減少します。その結果、出力が安定し、冷却も良好で、既存の監視システムを利用できます。これにより、歩留まりが向上し、廃棄されるウェハが減少し、OEEも安定します。
導入時に注意すべき点 導入時には、反射器の適切なマッチングと冷却機能の確認が重要です。空冷式の装置では、空気の流れを維持する必要があります。流れが悪くなると、クォーツが過度に加熱され、スペクトルが変動してしまいます。システムを温度制御装置やSPCログシステムに接続することで、設定値を維持し、早期に変動を検出できます。安定状態に達するまでには短時間かかりますので、ベークタイミングを適切に調整する必要があります。プロセスに適切にマッチすれば、先端プロセスで求められる精度で動作します。