300mm工程においては、洗浄後に残った水分が問題となります。これは、手遅れになって初めてその影響が現れるのです。この水分はフォトレジスト層に入り込み、熱バランスを乱し、露光後には不良品を引き起こします。ウェーハ上の水分を除去するためのヒーターランプは、このような問題を根本的に解決するために設計されています。
内部で重要なのは何か 私たちは、高速反応性のフィラメントを持つ短波長のハロゲン石英ランプを使用しています。これにより、熱が必要な場所に迅速かつ局所的に届けられます。ベイクエリア全体での温度均一性は±0.1℃という高い精度が求められます。だからこそ、ソフトベイクやハードベイクのプロファイルは、シフトごとに変更されないのです。
この装置は、クラス1〜100のクリーンルームで使用でき、低ガス放出性の素材を使用し、粒子の発生を防ぐ設計になっています。出力は200℃から450℃の範囲で安定しており、再現性も高いため、脱水処理や露光後の安定化処理がスムーズに行えます。
なぜ実際の現場で機能するのか ベイク処理は、午前2時でも午後2時と同じように正確に行われる必要があります。このランプは、表面の水分を除去し、露光前にレジストを安定させ、露光後に画像を固定するという機能を果たします。その結果、再加工の回数が減り、スクラップも少なくなり、CDコントロールも安定します。
エネルギー消費量も、設定温度に迅速に到達し、アイドル状態から処理状態への切り替えがスムーズなため、少なくなります。24時間365日稼働しても、計画外の停止はありません。OEM製のヒーターランプと同等の性能を持ち、既存のコーティング/ベイク装置にそのまま取り付けることができ、モジュール全体を再検証する必要はありません。
注意点 標準的な取り付け装置での設置は簡単ですが、位置合わせが重要です。ランプを指定された焦点位置内に保つ必要があります。そうでないと、熱の偏りが生じます。石英の取り扱いにも注意が必要で、指紋や溶剤が付着しないようにし、最初の運転時にはチャンバーの放射率や反射器の状態を確認する必要があります。
出力が安定するまでには短い時間がかかります。その後は、設定温度を維持し、処理を続けます。